1.呼吸性粉尘采样器/粉尘采样器 型号：HAZF-01
HAZF-01呼吸性粉尘采样器 主要用来定点监测粉尘作业环境中个班（8小时）时间内的呼吸性粉尘平均浓度。HAZF-01型呼吸性粉尘采样器术特点
（1）呼吸性粉尘分离效能符合标准（BMRC曲线)的种长周期呼吸性粉尘采样器 呼吸性粉尘采样器/粉尘采样器 型号：HAZF-01
（2）仪器机壳采用ABS程塑料，并作了防潮、防静电处理，
（3）粉尘分离装置采用双气泵采样、数显计时，具有气流稳定、负载能力大、作时间长、操作方便特点。
呼吸性粉尘采样器/粉尘采样器 型号：HAZF-01
HAZF-01型呼吸性粉尘采样器主要术参数
（1）采样流量：3.8L/min；
（2）采样度：±10%；
（3）连续作时间：>8h；
（4）防形式：矿用本质安型，防标志：ExibⅠ；
（5）外形尺寸：310mm×125mm×125mm；
（6）重量：2.5Kg。
2.台式数显匀胶台 数显匀胶台 匀胶台 型号：GP/SJT-B
GP/ SJT系列数显匀胶台是集成电路、半导体电路、掩模版制、激光息商标制过程中用于在基片上行光刻胶涂布的专用设备。
GP/SJT-B型台式数显匀胶台采用双转速机构：启动后，以低速运转，使胶摊开，到设定的时间后，自动转换到速运转，使光刻胶在基片上形成厚度均匀的胶膜。其双匀胶速度和时间分别可调。转速采用数字显示，观看醒目方便。特别适合等院校、研究机构、实验室及生产线使用。
|
主要术参数：
| 1、作电源： |
~220V，50HZ |
| 2、电源率： |
60W |
| 3、装片直径： |
ф10~75mm（可定制） |
|
4、转速稳定度：
|
±5% |
| 5、匀胶时间： |
0.01~99.99秒（可调） |
| 6、转速范围： |
1、低速：500~3000RPM（可调） 2、速：1500~8000RPM（可调） |
| 7、zui大转速： |
~8000RPM
|
| 8、外形尺寸： |
230*270*260mm |
| 9、重量： |
~8kg |
|
3.数显匀胶台/匀胶台 型号：GP/SJT-A
本机是用于半导体、集成电路及激光息商标制过程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻（感光）胶的专用设备。本机的作原理是利用速旋转时产生的离心力，将滴于基片上多余的光刻（感光）胶液甩去，在光刻（感光）胶表面张力和离心力的共同作用下，展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率、使用方便等优点，匀胶速度和匀胶时间分别可调，电器电路具有较的稳定性，结构合理，旋转平稳，转速、时间采用数字显示，直观性强。本机可与光刻机配套使用。
|
主要术参数：
| 1、作电压： |
380V/220V |
| 2、整机率： |
1200W |
| 3、匀胶时间控制范围： |
0.01-99.99秒；0.01-99.99分 |
|
4、转速：
|
0-8000Rpm |
| 5、装片直径（可根据用户要求定制）： |
ф35-75mm |
| 6、匀胶位（可根据用户要求定制）： |
1-4位 |
| 7、外形尺寸： |
长*宽* 850*810*1600mm
|
| 8、净重： |
120kg |
|
本机是用于半导体、集成电路及激光息商标制过程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻（感光）胶的专用设备。本机的作原理是利用速旋转时产生的离心力，将滴于基片上多余的光刻（感光）胶液甩去，在光刻（感光）胶表面张力和离心力的共同作用下，展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率、使用方便等优点，匀胶速度和匀胶时间分别可调，电器电路具有较的稳定性，结构合理，旋转平稳，转速、时间采用数字显示，直观性强。本机可与光刻机配套使用。
|
主要术参数：
| 1、作电压： |
380V/220V |
| 2、整机率： |
1200W |
| 3、匀胶时间控制范围： |
0.01-99.99秒；0.01-99.99分 |
|
4、转速：
|
0-8000Rpm |
| 5、装片直径（可根据用户要求定制）： |
ф35-75mm |
| 6、匀胶位（可根据用户要求定制）： |
1-4位 |
| 7、外形尺寸： |
长*宽* 850*810*1600mm
|
| 8、净重： |
120kg |
|
温馨提示：以上产品资料和图片都是按照顺序相对应的 相关产品：
HAD-177029 拍打式无菌均质器
H18383 毫瓦功率计
HAD-P1000 自动金相磨抛机
HAD-1104 盐雾浓度检测仪
HAD-3058 煤中砷检测仪
HAD-T2B 半导体管特性图示仪
设为首页
加入收藏
联系我们